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analyzer氧氣濃度計(jì)的原理及相關(guān)產(chǎn)品介紹
當(dāng)氧化鋯陶瓷燒紅時(shí)，氧離子在其晶體結(jié)構(gòu)中容易移動(dòng)，形成氧濃差電池，由于電池內(nèi)外表面之間的氧分壓差而產(chǎn)生電壓（電池電壓）。
通過(guò)使電池內(nèi)部與大氣接觸、使外部與樣品氣體接觸，可以產(chǎn)生基于大氣中的氧濃度的電壓。這可以用下面的公式來(lái)表達(dá)：
E是氧化鋯陶瓷產(chǎn)生的電壓（mV），T是電池的絕對(duì)溫度，而大氣中的氧氣濃度是恒定的，因此如果電池溫度恒定，則電池電壓也恒定。
通過(guò)倒算即可得出樣氣中的氧氣濃度。
因此，當(dāng)檢測(cè)池的兩側(cè)都暴露在大氣中時(shí)，池電壓理論上為0mV，并且隨著樣品氣體的氧濃度變得低于大氣中的氧濃度，池電壓升高。
金屬或陶瓷燒成的熱處理過(guò)程中使用還原氣氛，但在TB傳感器中， H2氣氛中H2-1/2 O 2 ? H2O、CO + 1/2 O 2 、H2 + 惰性氣體、CO/ CO 2解離產(chǎn)生?1×10^-20 atmO 。通過(guò)測(cè)量低于2℃的氧分壓，可以判斷氧化?還原并控制氣氛。 （“DG-R"系列適用于高精度還原氣氛測(cè)量。）
該儀器測(cè)量樣氣的氧分壓。
因此，即使氣體的氧濃度相同，如果壓力發(fā)生變化，也會(huì)產(chǎn)生與氧分壓相對(duì)應(yīng)的電動(dòng)勢(shì)。例如，如果將
大氣壓力（約21%O 2 ）降低至1Torr，則大氣壓力為760Torr，因此您將得到21×1/760=0.027%O 2的指示。
當(dāng)直接連接到真空爐時(shí)，我們有在 TB-IIF 的 CVD 排氣管線中實(shí)現(xiàn) 1 x 10^-3 Torr 的記錄，以及在 TB-IIV 中實(shí)現(xiàn) 1 x 10^-6 Torr 的記錄。
在m值（空燃比）1以下的直火式氣氛爐中燃燒條件下，通過(guò)測(cè)定CO+解離產(chǎn)生的10^-10以下的氧分壓，可測(cè)定CO+H2% H2/CO 2 +H2O。
1%(CO+H2)+0.5%O 2 =1%(CO+H2O)，因此1%(CO+H2)可用-0.5%O 2代替，并以-O 2 %范圍表示。
另外，如果您的目標(biāo)是m值為1的等量燃燒，我們還可以生產(chǎn)以零點(diǎn)為中心的-02%到0到+02%的范圍，所以請(qǐng)聯(lián)系我們。
當(dāng)氧化鋯盤被加熱到恒定溫度并向鉑電極施加恒定電壓時(shí)，由于泵浦作用，電流以氧離子為載體流動(dòng)，并且排出帽中的氧氣，產(chǎn)生與氧氣從小孔中擴(kuò)散出來(lái)。 （參見(jiàn)下圖1和圖2）
使用儀表中的折線軟件將與氧氣濃度變化相對(duì)應(yīng)的電流變化放大并線性化，以顯示氧氣濃度。
[主要應(yīng)用實(shí)例]
- 研究設(shè)施和潔凈室
- 使用惰性氣體（N2、Ar等）的環(huán)境
- 地下坑和下水道等地下空間
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[主要應(yīng)用實(shí)例]
?研究設(shè)施、設(shè)備
、實(shí)驗(yàn)設(shè)施、設(shè)備
、設(shè)備安裝
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[主要用途]
- 半導(dǎo)體等非活性線
- N
/一般便攜式氧氣濃度測(cè)量
/廢氣、PSA
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[主要用途]
?鍋爐氣氛控制
?鋼鐵加工
?有色金屬加工
?各種陶瓷相關(guān)燃燒爐
?城市垃圾等焚燒爐
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[主要用途]
- 鋼鐵工藝
、有色金屬工藝
、陶瓷相關(guān)燃燒爐
、城市垃圾燃燒爐
、其他高溫、高塵氣體
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[主要用途]
鍋爐
、鋼鐵工藝
、有色金屬工藝
、陶瓷相關(guān)燃燒爐
、城市垃圾燃燒爐
、其他高溫、高塵氣體
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[主要應(yīng)用]
- 半導(dǎo)體制造惰性線等
- N2回流爐
、N2PSA
、常壓爐
、船用IGS、IGG
、蒸汽
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[主要應(yīng)用]
- 真空爐
、真空手套箱
、氣氛控制室
、管道中的氧氣測(cè)量
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[主要用途]
- 半導(dǎo)體等非活性線
- N
/一般便攜式氧氣濃度測(cè)量
/廢氣、PSA
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控制單元C-58與氧化鋯O2傳感器結(jié)合使用。 它控制傳感器的溫度，處理來(lái)自傳感器的信號(hào)，并顯示氧氣濃度。
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