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日本shinkuu磁控濺射設(shè)備介紹 離子濺射儀

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更新日期:2024-03-23

簡要描述:

日本shinkuu磁控濺射設(shè)備介紹
磁控濺射裝置應(yīng)用了在靶材背面使用強磁鐵促進陰極表面層電離的原理,然后用磁場用離子轟擊靶材以釋放金屬分子。
在電子顯微鏡應(yīng)用中,主要使用金和鉑等貴金屬。 我們還有一系列型號,可以濺射其他金屬靶材。

日本shinkuu磁控濺射設(shè)備介紹 離子濺射儀
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日本shinkuu磁控濺射設(shè)備介紹

磁控濺射裝置應(yīng)用了在靶材背面使用強磁鐵促進陰極表面層電離的原理,然后用磁場用離子轟擊靶材以釋放金屬分子。
在電子顯微鏡應(yīng)用中,主要使用金和鉑等貴金屬。 我們還有一系列型號,可以濺射其他金屬靶材。

電子顯微鏡濺射,主要顆粒尺寸比較


AU:黃金觀察區(qū)域:10,000~10,000倍 Au-PD:金鈀

觀察區(qū)域:10,000~50,000倍
非常適合
低倍率觀察和良好的對比度。

鉑:鉑金 觀察區(qū)域:50,000~100,000次 Pt-PD:鉑鈀

觀察區(qū)域:30,000~50,000倍
它具有細(xì)
粒度,通常用于高倍率觀察。

W:鎢
觀察放大倍數(shù):10萬倍以上

粒徑與鋨相當(dāng),使得在放大倍率區(qū)域觀察甚至高于鉑。

日本shinkuu磁控濺射設(shè)備介紹

操作簡單,如果您選擇低價

只需使用計時器設(shè)置涂層時間,然后按開始按鈕!
任何人都可以輕松進行濺射。

裝置特征目標(biāo)金屬
MSP-mini
超緊湊型濺射機
這是光學(xué)顯微鏡,銀光膜制作,SEM和臺式SEM預(yù)處理的工具。
MSP-1S
這是一個內(nèi)置泵的小型濺射裝置。
鉑靶的濺射也是可能的,也可用于高達約50,000次的高倍率觀察。

如果按可操作性和功能進行選擇

該MSP20系列以高功能性和簡單操作為理念開發(fā)。 調(diào)節(jié)功能、自動排氣順序、聯(lián)鎖功能等均都有,可滿足各種需求。 每個都有自己的特點:UM具有樣品旋轉(zhuǎn)機構(gòu),MT可以是4英寸靶材,TK可以進行鎢濺射。

裝置特征目標(biāo)金屬
MSP-20UM 調(diào)節(jié)功能,適用于
各種應(yīng)用。 設(shè)置條件后,可以使用全自動按鈕自動成膜。
可以選擇傾斜旋轉(zhuǎn)樣品臺作為選項。 改進了環(huán)繞性能。
通過引入氬氣,可以涂覆更高純度的貴金屬薄膜。
它是一種具有全系列聯(lián)鎖和安全機制的濺射裝置。
MSP-20MT
該濺射裝置配備φ100mm尺寸的靶電極,支持4英寸晶圓。
該儀器概念基于 MSP-20,可以涂覆更廣泛的樣品。
MSP-20TK
該設(shè)備專為鎢濺射而開發(fā)。 它對于超高分辨率SEM觀察也很有用。 高容量電源可實現(xiàn)除貴金屬外的許多金屬的濺射。
氬氣用作大氣氣體。 風(fēng)冷磁控管靶可減少樣品損壞并防止靶溫度升高。

大面積晶圓支持

這是一種特殊的濺射裝置,支持半導(dǎo)體制造過程中大面積晶圓的濺射。 提供 8 英寸和 12 英寸尺寸。

裝置特征目標(biāo)金屬
使用磁控管靶電極實現(xiàn)了直徑為8 mm的大面積樣品臺,以滿足MSP-200in
硅襯底尺寸的增加。 較大的樣品臺可以同時涂覆8英寸晶圓和大量SEM樣品,從而提高檢測工作效率。
使用磁控管靶電極實現(xiàn)了直徑為12 mm的大面積樣品臺,以滿足MSP-300in
硅襯底尺寸的增加。 較大的樣品臺可以同時涂覆12英寸晶圓和大量SEM樣品,從而提高檢測工作效率。

進行前沿研究的高性能模型

它是一種多功能型號,可以濺射各種金屬,包括流行的鎢。 它用于從表面觀察到實驗應(yīng)用的廣泛領(lǐng)域。 高純度真空區(qū)域?qū)τ谥苽涞臉悠分陵P(guān)重要。 MSP-40T 能夠因渦輪泵排氣而在真空區(qū)域飛濺。

裝置特征目標(biāo)金屬
MSP-40T
是一種多用途的實驗室沉積裝置。 新型號配備了全自動薄膜沉積功能。
高效的薄膜沉積,排氣速度快,操作簡單。 各種金屬薄膜可以通過強磁場沉積。
渦輪泵和隔膜泵可實現(xiàn)清潔和高真空。 是一款性價比低廉的設(shè)備。
薄膜沉積靶材:金、銀、鉑、金-鈀、鈀、銅、鉻、鈀、鎳、鐵、鎢、鉬、鉬、鈦、鋁、ITO等
。 對于未列出的目標(biāo),請聯(lián)系我們。



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